Киберспорт

Шесть десятилетий защитных комбинезонов Intel

Защитный комбинезон Intel

Завод по производству микросхем, на котором высококвалифицированные специалисты носят защитные комбинезоны, — это интереснейшее место, поскольку оно символизирует высокие технологии.

Чтобы создавать компьютерные микропроцессоры, работающие в реальных условиях, эти производственные помещения должны быть одними из самых чистых мест на Земле.

«Люди носят эти сложные защитные комбинезоны не для того, чтобы защитить себя, а для того, чтобы защитить сам микропроцессор от любого загрязнения, которое может быть на теле человека» — как-то объяснил Денис Картер (Dennis Carter), бывший менеджер по маркетингу корпорации Intel.

«Это очень высокотехнологично и очень здорово, и мы думали, что это олицетворяет Intel».

Давайте ознакомимся с многолетней историей защитных комбинезонов Intel.

1969

Six_Decades_Image_2

Рабочий халат и сетка для волос были стандартной одеждой для чистых производственных помещений в начале работы завода 1, расположенного в Калифорнии.

«Громкость работающих радиоприемников была на максимуме, сотрудники обедали на своих рабочих местах, а технический персонал носил свои инструменты — засаленные гаечные ключи, отвертки и молотки — в задних карманах брюк», — вспоминает Гейб Кинневилл (Gabe Quenneville), бывший технический специалист Intel.

1973

Six_Decades_Image_3

Завод 3, расположенный в городе Ливермор, штат Калифорния, производил микросхемы памяти Intel DRAM 1103.

Это была первая производственная площадка Intel, где сотрудники носили защитные комбинезоны, но не носили перчатки.

1988

Six_Decades_Image_4

Сотрудник завода в капюшоне с воздушным и пылепоглощающим фильтром.

Фильтр защищает пластины и микросхемы, поглощая все загрязняющие вещества, которые могут на них попасть.

1989

Six_Decades_Image_5

Завод D2 открылся в 1989 году в Санта-Кларе. Он был оборудован воздушными душами, разработанными для дезинфекции сотрудников, до того как они войдут в чистые производственные помещения.

D2 был первым заводом Intel, где использовались 200-миллиметровые кремниевые пластины.

1997

Six_Decades_Image_6

Популярность рекламных роликов с людьми в защитных комбинезонах в конце девяностых привела к массовому производству кукол в защитных комбинезонах.

1998

Six_Decades_Image_7

Отвечая на вопрос, продолжит ли Intel выпускать рекламу с людьми в защитных комбинезонах, Деннис Картер (Dennis Carter) ответил: «Поскольку рабочие заводов играют очень важную роль во многих аспектах деятельности корпорации Intel, думаю, мы продолжим использовать эту концепцию. Не только для забавы, как мы делали это раньше, но и для более серьезных целей. Это будет не единственный вид рекламы, но, думаю, мы определенно продолжим эту традицию».

2007

Six_Decades_Image_8

Технолог Intel использует сканер для начала производства самой первой партии 45-нанометровых изделий из 300 -миллиметровых пластин на заводе 32 — первом заводе Intel по массовому производству 45-нанометровых микросхем в Чандлере, штат Аризона.

В том году завод начал производство миллионов микропроцессоров по новой 45-нанометровой транзисторной технологии Intel с применением металлических затворов.

2011


Сегодня корпорация Intel производит 22-нанометровые транзисторы еще меньших размеров, разработанные с использованием самой современной трехмерной конструкции Tri-Gate, которая позволяет повысить их производительность и энергоэффективность.

2013

https://www.youtube.com/watch?v=juKOgtpD7P4
Отис описывает свою жизнь и работу в качестве технолога в кампусе Intel Ocotillo в Чандлере, штат Аризона.

Six_Decades_Image_9

Поделиться этой статьей

Другие темы

Наука

Читать эту статью следующей

Read Full Story